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USI白光扫描多层微纳工件形貌检测数据异常机理及优化技术分析

本文基于设备官方技术手册与工业实测数据，剖析通用扫描干涉算法（Universal Scanning Interferometry, USI）在半导体多层复合结构检...

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2026

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铜箔 表面肌理 (Surface Texture)粗糙度参...

多层印制电路板（PCB）压合工艺（Multi-layer Lamination）品质，直接受铜箔表面肌理（Surface Texture）状态影响。其中，铜箔粗糙...

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2026

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09

白光干涉仪大视场光学设计难度高于单纯精度提升，属行业共性难题

白光干涉仪（White Light Interferometer, WLI）小视场下实现亚纳米级垂直测量精度，现有干涉光路与算法已经较为成熟。顺利获得优化信号解调、降...

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2026

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09

USI白光扫描：透明金属叠层界面模糊与微纳细节丢失成因及优化...

一、USI算法固有技术缺陷USI通用扫描干涉算法（Universal Scanning Interferometry, USI）容错性高、通用性广，但存在固有技术...

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